最佳答案
半導體的常用摻雜技巧重要有兩種，即高溫（熱）分散跟離子注入。摻入的雜質重要有兩類：
第一類是供給載流子的受主雜質或施主雜質（如Si中的B、P、As）；
第二類是產生複合核心的重金屬雜質（如Si中的Au）。
半導體摻雜規律
相關推薦
半導體的常用摻雜技巧重要有兩種，即高溫（熱）分散跟離子注入。摻入的雜質重要有兩類：
第一類是供給載流子的受主雜質或施主雜質（如Si中的B、P、As）；
第二類是產生複合核心的重金屬雜質（如Si中的Au）。